（14分）有机物A(（）)是合成高分子化合物HPMA的中间体，HPMA可用于制备锅炉阻垢剂...

（14分）有机物A(（）)是合成高分子化合物HPMA的中间体，HPMA可用于制备锅炉阻垢剂。关于A有如下反应流程：

请回答下列问题：

（1）有机物A不能够发生的反应有：_________（填写字母）

A． 取代反应　　 B． 加成反应　　 C． 消去反应　 D． 酯化反应

（2）可与1mol 有机物C反应的NaOH的物质的量最多可为___________

A． 1mol　　 B． 2mol　　 C． 3mol　　　　　 D． 4mol

（3）1mol A与E可在浓硫酸作用下脱去2mol H2O，写出该反应的化学方程式：________________；

（4）E在高温、高压和催化剂作用下反应生成高分子化合物HPMA，写出该反应的化学方程式：________；

（5）H是G的一种同分异构体。0.1mol H与足量金属Na反应放出3.36L氢气（标准状况下），0.1mol H足量NaHCO3反应放出2.24LCO2（标准状况下），H能发生银镜反应。H的结构简式可能是：____________、________________.

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酯类化合物H是一种医药中间体，常用于防晒霜中紫外线的吸收剂。实验室由化合物A和E制备H的一种合成路线如下图:

已知

①

②

回答下列问题:

（1）经测定E的相对分子质量为28，常用来测定有机物相对分子质量的仪器为___________。

F中只有一种化学环境的氢原子，其结构简式为_________________。

G中只有一种官能团，F→G的反应类型为___________________。

（2）(CH3)2SO4是一种酯，其名称为_________________。

（3）A能与Na2CO3溶液及浓溴水反应，且1molA最多可与2molBr2反应。核磁共振氢谱表明A的苯环上有四种不同化学环境的氢原子。A的结构简式为________________。C中含氧官能团的结构简式为_________。

（4）D+G→H的化学方程式为__________________。

（5）C的同分异构体中能同时满足下列条件的共有_____种(不含立体异构)。

①遇FeCl3溶液发生显色反应　　 ②能发生水解反应

（6）参照上述合成路线，设计一条由和(CH3)3CCl为起始原料制备的合成路线(其他试剂任选)；____________________

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【化学选修5-有机化学基础】（15分）化合物G是一种医药中间体，常用于制备抗凝血药．可以通过下图所示的路线合成：

请回答下列问题：

（1）B→C的转化所加的试剂可能是_______C+E→F的反应类型是________。

（2）有关G的下列说法正确的是___________。

a．属于芳香烃

b．可以发生水解、加成、氧化、酯化等反应

c．能与FeCl3溶液发生显色反应　　

d．1molG最多可以跟4molH2反应

（3）E的结构简式：___________________。

（4）F与足量NaOH浴液充分反应的化学方程式为　　　　　　　　 。

（5）E的同分异构体中，既能发生水解反应，又能与FeCl3溶液能发生显色反应的还有____种，其中苯环上有两种不同化学环境的氢原子的是　　　　 （写出其中一种的结构简式）。

（6）已经氯苯用10%到15%的氢氧化钠溶液在360到390℃、28－30MPa条件下水解再酸化，

可制取苯酚，而酚羟基一般不易直接与羧酸酯化。苯甲酸苯酚酯（）是一种重要的有机合成中间体。试写出以苯、甲苯为原料制取该化合物的合成路线流程图（无机原料任用）。

注：合成路线的书写格式参加如下示例流程图：

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【化学——选修5：有机化学基础】

高分子H是有机合成工业中一种重要的中间体。以丙烯和甲苯为起始原料合成H的工艺流程如下：

回答下列问题：

（1）化合物E中的官能团的名称是________。由G反应生成H的反应类型是_________。

（2）写出E与银氨溶液共热的离子反应方程式___________。

（3）A分子内在同一平面最多的原子有________个。

（4）写出C与F反应生成G的化学方程式___________。

（5）符合下列条件的G的同分异构体有___种：①与G具有相同的官能团 ②能够发生水解，水解产物与FeCl3溶液发生显色反应 ③苯环上有两个取代基

其中核磁共振氢谱面积比为1:2:2:2:1:2的是________（填结构简式）。

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【化学——选修5：有机化学基础】

高分子H是有机合成工业中一种重要的中间体。以丙烯和甲苯为起始原料合成H的工艺流程如下：

回答下列问题：

（1）化合物E中的官能团的名称是________。由G反应生成H的反应类型是_________。

（2）写出E与银氨溶液共热的离子反应方程式___________。

（3）A分子内在同一平面最多的原子有________个。

（4）写出C与F反应生成G的化学方程式___________。

（5）符合下列条件的G的同分异构体有___种：①与G具有相同的官能团 ②能够发生水解，水解产物与FeCl3溶液发生显色反应 ③苯环上有两个取代基

其中核磁共振氢谱面积比为1:2:2:2:1:2的是________（填结构简式）。

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有机物F是有机合成工业中一种重要的中间体．以甲苯和丙烯为起始原料合成F的工艺流程图如下：

回答下列问题：

（1）化合物B中的含氧官能团名称是　　 　　　　　 　　 ．F的结构简式为　　 　　 　　 ．

（2）写出C与银氨溶液共热的化学反应方程式： 　　　　　　　　　　　　　 ．

（3）化合物D能发生的反应有　　 　　　　　　 　　 （填序号）

①加成反应②氧化反应③消去反应④取代反应．

（4）B的含苯结构的同分异构体有　　 种，其中核磁共振氢谱中出现4组峰的有　 　 　　 （填写结构简式）．

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格氏试剂（RMgX，X=Cl、Br、I）是一种重要的有机合成中间体，酯类化合物与格氏试剂的反应是合成叔醇类化合物的重要方法，由只含一种官能团的物质A制备E的合成路线如图，回答下列问题：

已知信息如下：

①

②

（1）A→B的反应类型为___，E的分子式为___。

（2）B中所含官能团的名称为___。

（3）C→D的化学方程式为___。

（4）M是比C多一个碳的C的同系物，同时满足下列条件的M的同分异构体有___种（不考虑立体异构）。

①含六元碳环结构，不含甲基；②能与NaHCO3溶液反应放出CO2；③能发生银镜反应。

写出其中核磁共振氢谱有七组峰，且峰面积的比是4∶4∶2∶1∶1∶1∶1的所有物质的结构简式___。

（5）将下列D→E的流程图补充完整：___。

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有机化学基础]M为合成高分子材料的中间体，以芳香烃A制备M和高分子化合物N的一种合成路线如下：

​

已知：

请回答下列问题：

（1）C的化学名称为________。

（2）A→B、H→M的反应类型分别为________、________。

（3）F中所含官能团的名称为________。G的结构简式为________。

（4）试剂1为________。

（5）D→N的化学方程式为________。

（6）Q为H的同分异构体，同时满足下列条件的Q的结构简式为________。

①苯环上连有两个取代基，除苯环外无其他环状结构

②能与氯化铁溶液发生显色反应，1 mol Q最多消耗3 molNaOH

③核磁共振氢谱有5组峰，峰面积之比为6∶2∶2∶1∶1

（7）参照上述合成路线和信息，以甲醛和乙醛为起始原料（无机试剂任选），设计制备聚丙烯酸（）的合成路线：________。

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。

已知：+CH3Cl+HCl

请回答下列问题：

（1）F的化学名称是__，②的反应类型是___。

（2）D中含有的官能团是__（写名称），D聚合生成高分子化合物的结构简式为___。

（3）反应③的化学方程式是___。

（4）反应⑥的化学方程式是___。

（5）芳香化合物N是A的同分异构体，其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为___。

（6）参照有机物W的上述合成路线，设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)___。

[示例：CH3CH2OHCH2=CH2BrCH2CH2Br]

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下：

已知：

请回答下列问题：

(1)F的名称是　　 _______________，⑤的反应类型是________。　　 .

(2)E中的含氧官能团是________ (写名称)，W的结构简式为　　 _________________。

(3)反应③的化学方程式是________。

(4) D发生聚合反应的化学方程式为________。

(5)芳香化合物N是A的同分异构体，其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为________________。

(6)参照有机物W的上述合成路线，设计以M为起始原料制备F的合成路线(其他试剂任选)。

__________________________________。

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