高二化学选择题中等难度题
高二化学选择题中等难度题查看答案及解析
某种“光敏性高分子”材料在荧光屏及大规模集成电路中应用广泛。其结构如下,对该“光敏性高分子”,下列叙述正确的是( )
A.化学式为(C11H11O2)n
B.它能发生加成反应,不能发生水解反应
C.它可以和FeCl3溶液发生显色反应
D.1mol该分子最多能和4n mol H2发生加成反应
高二化学选择题中等难度题查看答案及解析
感光性高分子也称为“光敏性高分子”,是一种在彩电荧光屏及大规模集成电路制造中应用较广的新型高分子材料,其结构简式为
试回答下列问题:
(1)若它是由两种单体经酯化后聚合而成的,试推断这两种单体的结构简式
________________________、______________________
(2)写出在(1)中由两种单体生成高聚物的各步化学反应方程式:
________________,____________________________________。
(3)对此高聚物的性质判断正确的是________
A.在酸性条件下可以发生水解
B.此高聚物不能使溴水褪色
C.此高聚物可以使酸性高锰酸钾溶液褪色
D.此高聚物水解后可得到另外一种高聚物
高二化学填空题中等难度题查看答案及解析
感光性高分子也称为“光敏性高分子”,是一种在彩电荧光屏及大规集成电路制造中应用较广的新型高分子材料.其中一种的结构简式为:
试回答下列问题:
(1)已知它是由两种单体经酯化后聚合而成的,试推断这两种单体的结构简式_________________ 、________________.
(2)写出该高分子在氢氧化钠溶液中反应的化学反应方程式:___________。
(3)对此高聚物的性质判断不正确的是__________(填字母).
A.在酸性条件下可以发生水解 B.此高聚物不能使溴水褪色
C.此高聚物可以使酸性高锰酸钾溶液褪色 D.此高聚物可与液溴发生取代反应
高二化学综合题中等难度题查看答案及解析
【化学—选修5:有机化学基础】
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产物略去):
已知Ⅰ.(R,R′为烃基或氢)
Ⅱ.(R,R′为烃基)
(1)写出A的结构简式
(2)B分子中所含官能团名称为 。
(3)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E→F的化学方程式为 。
(4)由B到C的反应类型为 。由F到G的反应类型为
(5)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
(6)C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应;
②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式: 。
(7)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下:
高二化学推断题简单题查看答案及解析
酞菁钴被广泛应用于光电材料、光动力学光敏材料等方面。酞菁钴(II)结构如图所示(Co均形成单键,部分化学键未画明)。下列说法错误的是( )
A.酞菁钴(II)中三种非金属元素的电负性大小顺序为N>C>H
B.酞菁钴(II)中碳原子的杂化方式只有sp2杂化
C.1号和3号N原子的VSEPR模型均为平面三角形
D.2号和4号N原子与Co(Ⅱ)是通过配位键结合
高二化学单选题中等难度题查看答案及解析
(15分)光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产物略去):
已知:A是苯甲醛
Ⅰ.(R,R′为烃基或氢)
Ⅱ. (R,R′为烃基)
(1)C分子中所含官能团名称为 。
(2)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为 。
(3)由C到D的反应类型为 。
(4)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
(5)C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应;
②苯环上的一氯取代产物只有两种。
写出该同分异构体的结构简式: 。
(6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下:
高二化学填空题极难题查看答案及解析
新材料的出现改变了人们的生活,对新材料的研究越来越重要.
(1)硫化锌在荧光体、光导体材料、涂料、颜料等行业中应用广泛.其晶胞结构如图1所示,a位置是S2﹣、b位置Zn2+则此晶胞中含有 个S2﹣,Zn2+的配位数为 .
(2)最近发现一种钛原子和碳原子构成的气态团簇分子,如图2所示,项角和面心的原子是钛原子,棱的中心和体心的原子是碳原子,它的化学式为 .
(3)由甲烷分子,在一定条件下可以得到“碳正离子”CH3+,和“碳负离子”CH3﹣,CH3+中C﹣H键键角是 ;CH3﹣的空间构型是 .
(4)某金属材料的结构如图3﹣I所示,属于面心立方的结构,晶胞结构如图3﹣Ⅱ所示.
若晶胞的边长为a pm,金属的密度为ρ g/cm3,金属的摩尔质量为M g/mol,则阿伏加德罗常数NA= mol﹣1.
高二化学填空题简单题查看答案及解析
新材料的出现改变了人们的生活,对新材料的研究越来越重要。
(1)硫化锌在荧光体、光导体材料、涂料、颜料等行业中应用广泛。其晶胞结构如右图所示,a位置是S2-、b位置Zn2+,则此晶胞中含有________个S2-,Zn2+的配位数为________。
(2)最近发现一种钛原子和碳原子构成的气态团簇分子,如图所示,项角和面心的原子是钛原子,棱的中心和体心的原子是碳原子,它的化学式为 。
(3)由甲烷分子,在一定条件下可以得到“碳正离子”CH3+,和“碳负离子”CH3—,CH3+中C—H键键角是 ;CH3—的空间构型是 。
(4)某金属材料的结构如图I所示,属于面心立方的结构,晶胞结构如图Ⅱ所示。若晶胞的边长为a pm,金属的密度为ρ g/cm3,金属的摩尔质量为M g/mol,则阿伏加德罗常数NA=__________mol-1。
高二化学填空题困难题查看答案及解析
化学知识广泛应用于生产、生活中,下列叙述不正确的是
A.研发可降解高分子材料,减少“白色污染”
B.明矾和ClO2都能作为净水剂,其原理完全相同
C.海水淡化和工业生产及生活废水的再生利用,是解决缺水问题的有效途径
D.液氯罐泄漏时,可将其移入水塘中,并向水塘中加入生石灰
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