工业上常用碳在高温下与二氧化硅反应制取粗硅：SiO2+2C
Si+2CO↑．在该反应中，作为氧化剂的物质是________（填化学式，下同），作为还原剂的物质是________．若利用该反应制取14g Si，则需消耗________mol SiO2．
Si+2CO↑．在该反应中，作为氧化剂的物质是________（填化学式，下同），作为还原剂的物质是________．若利用该反应制取14g Si，则需消耗________mol SiO2． 高一化学填空题中等难度题
Si+2CO↑．在该反应中，作为氧化剂的物质是________（填化学式，下同），作为还原剂的物质是________．若利用该反应制取14g Si，则需消耗________mol SiO2． 高一化学填空题中等难度题
Si+2CO↑．在该反应中，作为氧化剂的物质是________（填化学式，下同），作为还原剂的物质是________．若利用该反应制取14g Si，则需消耗________mol SiO2． 高一化学填空题中等难度题查看答案及解析
硅是重要的无机非金属材料，工业上从硅的氧化物制取硅单质的主要反应为
SiO2 ＋ 2C
Si ＋ 2CO↑。其中，氧化剂是 （填化学式），被氧化的物质是 （填化学式），若反应中消耗了2 mol C ，则转移的电子为 mol 。
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下列反应中，SiO2作为氧化剂的是
A. SiO2＋CaO===CaSiO3
B. SiO2＋2NaOH===Na2SiO3＋H2O
C. SiO2＋2C
Si＋2CO
D. SiO2＋Na2CO3Na2SiO3＋CO2↑
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制备粗硅的反应为：SiO2+2C
Si+2CO↑，其中氧化剂与还原剂的物质的量之比为( )
A．1 : 3 B．3 : 1 C．1 : 2 D．2 : 1
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制备粗硅的反应为：SiO2+2C
Si+2CO↑，其中氧化剂与还原剂的物质的量之比为
A．1 : 3 B．3 : 1 C．1 : 2 D．2 : 1
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半导体工业中，有一句行话：“从沙滩到用户”，即由SiO2制Si。制取过程中不涉及到的化学反应是（ ）
A. SiO2+2C
Si+2CO↑
B. SiO2+2NaOH＝Na2SiO3+H2O
C. Si+2Cl2
SiCl4
D. SiCl4+2H2Si+4HCl
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工业上利用硅的氧化物制取硅单质，主要反应为：SiO2 + 2C 
Si + 2CO↑。该反应中，还原剂是 （填化学式），被还原的物质是 （填化学式）；若反应中消耗了2 mol C，则生成 _____mol Si，转移电子的物质的量为 mol。
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下列反应中，氧化剂与还原剂的物质的量之比为1:2的是
①2CH3COOH+Ca(C1O)2=2HC1O+Ca(CH3COO)2
② SiO2+2C
Si+2CO↑
③4HC1(浓)+MnO2
MnCl2+Cl2↑+2H2O
④SiO2+3CSiC+2CO↑
A. 仅有② B. 仅有②④ C. 仅有②③④ D. ①②③④
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已知SiO2＋2C
Si＋2CO↑；Si＋CSiC。
现有石英砂和炭粉的混合物1mol，于高温下在电炉里充分反应后，得残留固体；
若石英砂与混和物的物质的量之比n（0＜n＜1），试讨论n取何值时，残留物的成分及其物质的量。
| n | 例︰n＝ | _______ | _______ | _______ | _______ |
| 残留固体 | Si | _______ | _______ | _______ | _______ |
| 物质的量（摩） |
| _______ | _______ | _______ | _______ |
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下列说法不正确的是
A. 因SiO2不溶于水,故SiO2不是酸性氧化物
B. 在反应SiO2+2C
Si+2CO↑中,SiO2作氧化剂
C. SiO2是一种空间立体网状结构的晶体,熔点高,硬度大
D. 氢氟酸能够刻蚀玻璃,故不能用玻璃瓶来盛装氢氟酸
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