（12分）有机高分子化合物甲是
一种常用的光敏高分子材料，其结构简式为：
。
按图可以合成甲，其中试剂Ⅰ可由相对分子质量为26的烃与水加成制得。
已知：
① －CH2OH + －CH2OH 
－CH2OCH2－ + H2O
②
回答下列问题：
（1）试剂Ⅰ的名称是；B→C的反应类型是________；
（2）质谱图显示A的相对分子质量是80.5；A分子中氧元素的质量分数为19.88%，碳元素的质量分数为29.81%，其余为氢元素和氯元素，且A的核磁共振氢谱上有三个吸收峰，峰面积的比例为2:2:1，则A的结构简式为________。
（3）写出下列反应的化学方程式。
①D→E的反应________；
②C与F的反应________。
（4）E的一种同分异构体，水解产物有两种，一种能使溴水褪色，另一种在滴加饱和溴水后，有白色沉淀生成，该物质的结构简式为________。
高三化学填空题简单题
有机高分子化合物甲是一种常用的光敏高分子材料，其结构简式为：
按下图流程可以合成甲，其中试剂Ⅰ可由相对分子质量为26的烃与水加成制得。
已知：
回答下列问题：
（1）质谱图显示A的相对分子质量是80.5。A分子中氧元素的质量分数为19.88%，碳元素的质量分数为29.81%，其余为氢元素和氯元素。A的核磁共振氢谱上有三个吸收峰，峰面积的比例为2∶2∶1。A的结构简式为 。
（2）试剂Ⅰ的名称是________________；B→C的反应类型是________________。
（3）写出下列反应的化学方程式：
①A→B：________________________；
②D→E：________________________；
③C与F的反应：________________________。
（4）E的一种同分异构体，水解产物有两种，一种能使溴水褪色，另一种在滴加饱和溴水后，有白色沉淀生成，该物质的结构简式为 。
高三化学推断题简单题查看答案及解析
（12分）有机高分子化合物甲是
一种常用的光敏高分子材料，其结构简式为：。
按图可以合成甲，其中试剂Ⅰ可由相对分子质量为26的烃与水加成制得。
已知：
① －CH2OH + －CH2OH －CH2OCH2－ + H2O
②
回答下列问题：
（1）试剂Ⅰ的名称是；B→C的反应类型是________；
（2）质谱图显示A的相对分子质量是80.5；A分子中氧元素的质量分数为19.88%，碳元素的质量分数为29.81%，其余为氢元素和氯元素，且A的核磁共振氢谱上有三个吸收峰，峰面积的比例为2:2:1，则A的结构简式为________。
（3）写出下列反应的化学方程式。
①D→E的反应________；
②C与F的反应________。
（4）E的一种同分异构体，水解产物有两种，一种能使溴水褪色，另一种在滴加饱和溴水后，有白色沉淀生成，该物质的结构简式为________。
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．
-CH2OCH2-+H2O
+
+H2O高三化学解答题中等难度题查看答案及解析
．
-CH2OCH2-+H2O++H2O高三化学解答题中等难度题查看答案及解析
．
-CH2OCH2-+H2O++H2O高三化学解答题中等难度题查看答案及解析
有机高分子化合物甲是一种常用的光敏高分子材料，其结构简式为：
。由A、X为原料，按如下流程可以合成甲，其中试剂I可由一定条件下炔烃与水反应制得，试剂X的质谱图显示最大的峰值为106。
已知：a.—CH2OH+—CH2OH
—CH2OCH2—+H2O
b.
+
+H2O
c.羟基直接连在碳碳双键的碳上是一种不稳定的结构，易发生分子内重排从而转化为稳定结构：
请回答下列问题：
（1）已知A分子中氧元素的质量分数为19.88%，碳元素的质量分数为29.81%，其余为氢元素和氯元素，且A的核磁共振氢谱上有三个吸收峰，峰面积之比为2∶2∶1，则A的结构简式为___；
（2）下列说法不正确的是___；
A.有机物A能发生水解反应，其水解产物可用作汽车发动机的抗冻剂
B.有机物X不可能有能与Na单质发生置换反应的同分异构存在
C.有机物G的分子式为C13H14O3，能发生取代、加成、氧化、还原、加聚反应
D.有机物D分子内最多4原子共线，且所有原子均可能共面
（3）写出B→C的化学方程式：___；
（4）H是E的同分异构体，写出满足下列条件的H的结构简式___；
①1molH能与足量新制Cu(OH)2充分反应生成2molCu2O；
②H的核磁共振氢谱上共有四个吸收峰。
（5）聚乙酸乙烯酯(PVAc)是一种新型高分子材料，其性质稳定、无毒、粘结强度高，是一种环保的胶黏剂，设计由A为原料制备聚乙酸乙烯酯的流程___。
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有机高分子化合物M是生产玻璃钢的原料，其合成路线如下：
已知：
（1）烃A的相对分子质量为28，其结构简式是________________。
（2）试剂a是________________。
（3）C的结构简式是________________。
（4）反应II的化学方程式是________________________。
（5）反应Ⅲ的反应类型是________________。
（6）G和H反应生成M的化学方程式是________________________。
（7）G的一种同分异构体N满足如下转化关系：
在该条件下，1 mol N生成2 mol I。N的结构简式是________________。
（8）已知：
以苯和乙醛为原料制备H，写出合成路线（用结构简式表示有机物，用箭头表示转化关系，箭头上注明试剂和反应条件）：________________________。
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【化学—选修5：有机化学基础】
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知Ⅰ．
（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R′为烃基）
（1）写出A的结构简式
（2）B分子中所含官能团名称为 。
（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E→F的化学方程式为 。
（4）由B到C的反应类型为 。由F到G的反应类型为
（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式： 。
（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：
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A的分子式为C2H6O2，以A为原料，按下图所示流程合成一种常用的光敏高分子材料G，其结构简式为：
。
已知：①—CH2OH+—CH2OH
—CH2OCH2—+H2O
②
+
+H2O
请回答下列问题：
（1）A的名称是________：F—→G的反应类型是 ________
B的核磁共振氢谱上共有________种吸收峰。
C的结构简式是 ________。
A—→B的化学方程式是________ 。
B+D—→E的化学方程式是 ________。
写出同时满足下列条件的D的所有同分异构体的结构简式：________
________
①属于酯类且苯环上只有一个取代基 ②除苯环外不再含其他环状结构
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化合物H 是一种有机材料中间体。实验室由芳香化合物A制备H 的一种合成路线如下；
已知：①
②
③
请回答下列问题：
（1）芳香族化合物B 的名称为__________，C 的同系物中相对分子质量最小的结构简式为__________。
（2）由F生成G 的第①步反应类型为_______________。
（3）X的结构简式为_______________。
（4）写出D生成E 的第①步反应化学方程式____________________________。
（5） G 与乙醇发生酯化反应生成化合物Y，Y 有多种同分异构体，其中符合下列条件的同分异构体有__________种，写出其中任意一种的结构简式_____________________。
①分子中含有苯环，且能与饱和碳酸氢钠溶液反应放出CO2
②其核磁共振氢谱显示有4 种不同化学环境的氢，峰面积比为6∶2∶1∶1。
（6）写出用
为原料制备化合物
的合成路线，其它无机试剂任选_____________________________________________。
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