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半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅：
①SiO2(s)＋2C(s)===Si(s)＋2CO(g) ΔH＝＋682.44 kJ·mol－1，
(石英砂) (粗硅)
②Si(s)＋2Cl2(g)===SiCl4(g) ΔH＝－657.01 kJ·mol－1
(粗硅)
③SiCl4(g)＋2Mg(s)===2MgCl2(s)＋Si(s) ΔH＝－625.63 kJ·mol－1
(纯硅)
用石英砂生产1.00 kg纯硅的总放热为
A．2.43×104 kJ B．2.35×104 kJ C．2.23×104 kJ D．2.14×104 kJ
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半导体工业用石英砂做原料通过下面三个重要反应生产单质硅：
用石英砂生产1.00 kg纯硅，放出的总热量约为（ ）
A．2.43×104KJ B．2．35×104 kJ C．2．23×104 kJ D．2．14×104 kJ
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制备硅单质时，化学反应如下：（1）SiO2＋2C==== Si＋2CO↑ (2)Si＋2Cl2 ===SiCl4 （3）SiCl4＋2H2 ===Si＋4HCl。下列对上述三个反应的叙述中，不正确的是：（ ）
A．（1）（3）为置换反应 B．（1）（2）（3）均为氧化还原反应
C．（2）为化合反应 D．三个反应的反应物中硅元素均被还原
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关于硅及其化合物的叙述中，不正确的是
A. 硅是良好的半导体材料
B. 制备普通水泥的原料是纯碱、石灰石、石英
C. 可以用焦炭还原二氧化硅生产硅：SiO2+2C
Si+2CO↑D. HF刻蚀玻璃的反应原理是：SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O
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（6分）工业上利用硅的氧化物制取硅单质，主要反应为：SiO2 + 2C
Si + 2CO↑。该反应中，还原剂是 （填化学式），被还原的物质是 （填化学式）；若反应中消耗了1 mol C，则生成 mol Si。高二化学填空题中等难度题查看答案及解析
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(原创)工业上以沙子为原料制取粗硅，主要反应的化学方程式为2C(s) + SiO2(s) =Si (s) + 2CO(g) △H > 0，对该反应的说法中不正确的是
A．△S＞0
B．产物CO 为酸性氧化物
C．高温条件下才能自发进行
D．采用碎沙而非石块的原因可能是加快反应速率
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工业上粗硅的生产原理为2C＋SiO2
Si＋2CO↑，下列说法正确的是A．SiO2是氧化剂 B．SiO2发生氧化反应
C．C表现出氧化性 D．C被还原
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工业上粗硅的生产原理为2C＋SiO2
Si＋2CO↑，下列说法正确的是( )A. C表现出氧化性 B. SiO2发生氧化反应
C. SiO2是氧化剂 D. C被还原
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工业上制石英玻璃和光导纤维的重要原料是 ( )
A．Al2O3 B．MgO C．SiO2 D．Si
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硅是人类文明发展的重要元素之一，从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个又一个奇迹。
（1）工业生产粗硅的反应有：SiO2+2C
Si（粗）+2CO↑，SiO2+3C
SiC+2CO↑。若产品中单质硅与碳化硅的物质的量之比为1：1，则参加反应的C和SiO2的质量之比为 。（2）工业上可以通过如下图所示的流程制取纯硅：
①若反应I为 Si（粗）+3HCl
SiHCl3+H2，则反应II的化学方程式为 。②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另 一种物质，写出该反应的化学方程式： 。
③设每一轮次制备1mol纯硅，且生产过程中硅元素没有损失，反应I中HCl的利用率为90%，反应II中H2的利用率为93.75%，则在第二轮次的生产中，补充投入HCl 和H2的物质的量之比是 。
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Si+2CO↑
Si + 2CO↑。该反应中，还原剂是
Si＋2CO↑，下列说法正确的是
Si＋2CO↑，下列说法正确的是( )
Si（粗）+2CO↑，SiO2+3C
SiC+2CO↑。若产品中单质硅与碳化硅的物质的量之比为1：1，则参加反应的C和SiO2的质量之比为