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【化学—选修5：有机化学基础】
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知Ⅰ．
（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R′为烃基）
（1）写出A的结构简式
（2）B分子中所含官能团名称为 。
（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E→F的化学方程式为 。
（4）由B到C的反应类型为 。由F到G的反应类型为
（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式： 。
（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知：
Ⅰ.
（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ.
（R，R’为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为 。
（2）C物质可发生的反应类型为 （填字母序号）。
a.加聚反应 b. 酯化反应 c. 还原反应 d.缩聚反应
（3）B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为 。
（4）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为 。
（5）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有 种，写出其中的一种同分异构体的结构简式为 。
（6）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：
已知：
Ⅰ．
(R1、R2为烃基或氢)
Ⅱ．
(R1、R2为烃基或氢)
(1) A分子中含氧官能团名称为 。
(2) C物质可发生的反应类型为 (填字母序号)。
a．加聚反应 b． 酯化反应 c．还原反应 d．缩聚反应
(3) B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为 。
(4) 与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、
、 和 。
(5) D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):
已知：
Ⅰ．
（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R’为烃基）
（1）写出A的结构简式__________。
（2）B分子中所含官能团的名称为__________。
（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E
F的化学方程式为____________。
（4）由F到G的反应类型为__________。
（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为__________。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应
②苯环上的一氧取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式:_________。
（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下:
_______________________
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：
已知：
(1)A的化学名称是_，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积之比为 3∶2∶1，E能发生水解反应，则 F 的结构简式为_。
(2)G 分子中所含官能团名称为_，羧酸 X 的实验式为_。
(3)B→C 所需的试剂 Y 和反应条件分别为_，由 F 到 G的反应类型为_。
(4)D 和 G 反应生成光刻胶的化学方程式为_____________________________________。
(5)C 的一种同分异构体满足下列条件：①能发生银镜反应，其水解产物之一能与 FeCl3溶液发生显色反应；②苯环上的一氯取代产物只有两种，该同分异构体的结构简式为__________________。
(6)根据已有知识并结合相关信息，写出以 CH3CHO 为原料制备 CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任选)：________________________________________。
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（15分）光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知：A是苯甲醛
Ⅰ．
（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R′为烃基）
（1）C分子中所含官能团名称为 。
（2）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为 。
（3）由C到D的反应类型为 。
（4）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
（5）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。
写出该同分异构体的结构简式： 。
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）： 
已知：
Ⅰ．
（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R’为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为________。
（2）羧酸X的电离方程式为________。
（3）C物质可发生的反应类型为________（填字母序号）。
a．加聚反应 b． 酯化反应 c． 还原反应 d．缩聚反应
（4）B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为________。
（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为________。
（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、
、________和________。
（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为________。
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【化学一一选修修5:有机化学基础】光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,它的一种合成路线如下(部分试剂和产物略去):
已知：
I.
II.
回答下列问题
(1)C中所含官能团的名称是________，G的化学名称为_______________。
(2)乙快和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为_________,E→F的反应类型是___________。
(3)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为_________________。
(4)D+G→光刻胶的化学方程式_________________________________。
(5)某芳香族有机物H是C的同系物,相对分子质量比C大14,则该有机物H的苯环上只含有两条侧链的同分异构体有______________种。(不考虑立体异构)
(6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH2CH2OH为原料制备CH2CH2CH2COOH的合成路线流程图(无机试剂任用) ______________________。合成路线流程图示例如下:
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):
已知：
Ⅰ．
(R1，R2为烃基或氢)
Ⅱ． (R1，R2为烃基)
(1)B分子中所含官能团的名称为_______________，由F到G的反应类型为__________；
(2)乙炔和羧酸X发生加成反应生成E，E的核磁共振氢谱有三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E加聚后产物F的结构简式为__________________________；
(3)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为_________________________；
(4)C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应
②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式:_________。
(5)根据已有知识并结合本题信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用，合成路线流程图示例见本题题干) ______________________________________________________。
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去):
已知：
Ⅰ．
(R，R′为烃基或氢)
Ⅱ．
(R，R′为烃基)
（1）A分子中含氧官能团名称为_________。
（2）G的化学名称为_________。
（3）F生成G的反应类型为_________。
（4）D分子中最多_________个原子共平面。
（5）B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为_________。
（6）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为_________。
（7）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有_________种，其中苯环上的一氯代物有两种的同分异构体的结构简式是_________。
（8）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为_________。
(R1，R2为烃基或氢)
(R1，R2为烃基)
（R，R’为烃基或氢）
（R，R’为烃基）
(R1、R2为烃基或氢)
、
、
F的化学方程式为____________。
（R，R′为烃基或氢）
（R，R′为烃基）
（R，R’为烃基或氢）
（R，R’为烃基）
、
、________和________。
(R，R′为烃基或氢)
(R，R′为烃基)