三氯氢硅(SiHCl3)是制备硅烷、多晶硅的重要原料。回答下列问题:
对于反应2SiHCl3(g)=SiH2Cl2(g)+SiCl4(g),采用大孔弱碱性阴离子交换树脂催化剂,在323K和343K时SiHCl3的转化率随时间变化的结果如图所示。
①343K时反应的平衡转化率α=___%。平衡常数K343K=__(保留2位小数)。
②在343K下:要提高SiHCl3转化率,可采取的措施是__;要缩短反应达到平衡的时间,可采取的措施有___、___。
③比较a、b处反应速率大小:va___vb(填“大于”“小于”或“等于”)。反应速率v=v正-v逆=-,k正、k逆分别为正、逆向反应速率常数,x为物质的量分数,计算a处=___(保留1位小数)。
高三化学填空题困难题
三氯氢硅(SiHCl3)是制备硅烷、多晶硅的重要原料。回答下列问题:
对于反应2SiHCl3(g)=SiH2Cl2(g)+SiCl4(g),采用大孔弱碱性阴离子交换树脂催化剂,在323K和343K时SiHCl3的转化率随时间变化的结果如图所示。
在343K下:要提高SiHCl3转化率,可采取的措施是___;要缩短反应达到平衡的时间,可采取的措施有___、___。
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三氯氢硅(SiHCl3)是制备硅烷、多晶硅的重要原料。回答下列问题:
对于反应2SiHCl3(g)=SiH2Cl2(g)+SiCl4(g),采用大孔弱碱性阴离子交换树脂催化剂,在323K和343K时SiHCl3的转化率随时间变化的结果如图所示。
①343K时反应的平衡转化率α=___%。平衡常数K343K=__(保留2位小数)。
②在343K下:要提高SiHCl3转化率,可采取的措施是__;要缩短反应达到平衡的时间,可采取的措施有___、___。
③比较a、b处反应速率大小:va___vb(填“大于”“小于”或“等于”)。反应速率v=v正-v逆=-,k正、k逆分别为正、逆向反应速率常数,x为物质的量分数,计算a处=___(保留1位小数)。
高三化学填空题困难题查看答案及解析
三氯氢硅(SiHCl3)是制备硅烷、多晶硅的重要原料,对于反应2SiHCl3(g)SiH2Cl2(g) +SiCl4(g),应速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分别为正、逆向反应速率常数,x为物质的量分数,采用大孔弱碱性阴离子交换树脂催化剂,在323K和343K时SiHCl3的转化率随时间变化的结果如图所示。下列说法错误的是( )
A.该反应的正反应活化能大于逆反应活化能
B.a、b处反应速率大小:va大于vb
C.温度一定时使用更优质催化剂,可使k正、k逆增大,k正与k逆的比值增大
D.343K时反应的平衡常数K=
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三氯氢硅(SiHCl3)是制备硅烷、多晶硅的重要原料,对于反应2SiHCl3(g)SiH2Cl2(g) +SiCl4(g),应速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分别为正、逆向反应速率常数,x为物质的量分数,采用大孔弱碱性阴离子交换树脂催化剂,在323K和343K时SiHCl3的转化率随时间变化的结果如图所示。下列说法错误的是( )
A.该反应的正反应活化能大于逆反应活化能
B.a、b处反应速率大小:va大于vb
C.温度一定时使用更优质催化剂,可使k正、k逆增大,k正与k逆的比值增大
D.343K时反应的平衡常数K=
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甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域,三氯氢硅(SiHCl3)是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题:
(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有:
Si(s)+4HCl(g)= SiCl4(g)+2H2(g) ∆H=-241 kJ/mol
SiHCl3(g)+HCl(g)=SiCl4(g)+H2(g) ∆H=-31 kJ/mol
以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是____________________________。
(2)工业上可用四氯化硅和氢化铝锂(LiAlH4)制甲硅烷,反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为_________________。
(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g) SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤,此反应采用一定量的PA100催化剂,在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。
① 353.15 K时,平衡转化率为_________,反应的平衡常数K=________(保留3位小数)。该反应是________反应(填“放热”“吸热”)。
②323.15 K时,要缩短反应达到平衡的时间,可采取的措施有_________、__________。
③ 比较a、b处反应速率的大小:va_____vb (填“>”“<”或“=”)。已知反应速率v正=,v逆=,k1、k2分别是正、逆反应的速率常数,与反应温度有关,x为物质的量分数,则在353.15 K时=________(保留3位小数)。
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甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域,三氯氢硅(SiHCl3)是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题:
(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有:
Si(s)+4HCl(g)= SiCl4(g)+2H2(g) ∆H=-241 kJ/mol
SiHCl3(g)+HCl(g)=SiCl4(g)+H2(g) ∆H=-31 kJ/mol
以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是____________________________。
(2)工业上可用四氯化硅和氢化铝锂(LiAlH4)制甲硅烷,反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为_________________。
(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g) SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤,此反应采用一定量的PA100催化剂,在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。
① 353.15 K时,平衡转化率为_________,反应的平衡常数K=________(保留3位小数)。该反应是________反应(填“放热”“吸热”)。
②323.15 K时,要缩短反应达到平衡的时间,可采取的措施有_________、__________。
③ 比较a、b处反应速率的大小:va_____vb (填“>”“<”或“=”)。已知反应速率v正=,v逆=,k1、k2分别是正、逆反应的速率常数,与反应温度有关,x为物质的量分数,则在353.15 K时=________(保留3位小数)。
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甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域,三氯氢硅(SiHCl3)是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题:
(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有:
Si(s)+4HCl(g)=SiCl4(g)+2H2(g) ∆H=-241kJ/mol
SiHCl3(g)+HCl(g)=SiCl4(g)+H2(g) ∆H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是 ___。
(2)铝锂形成化合物LiAlH4既是金属储氢材料又是有机合成中的常用试剂,遇水能得到无色溶液并剧烈分解释放出H2,请写出其水解反应化学方程式____。LiAlH4在化学反应中通常作_______(填“氧化”或“还原”)剂。工业上可用四氯化硅和氢化铝锂(LiAlH4)制甲硅烷,反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为 _________
(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g)SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤,此反应采用一定量的PA100催化剂,在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。
①353.15K时,平衡转化率为____,该反应是____反应(填“放热”“吸热”)。
②323.15K时,要缩短反应达到平衡的时间,可采取的最佳措施是____。
(4)比较a、b处反应速率的大小:Va ___Vb (填“>”“<”或“=”)。已知反应速率V正=K1x2SiHCl3,V逆=K2xSiH2Cl2xSiCl4,K1,K2分别是正、逆反应的速率常数,与反应温度有关,x为物质的量分数,则在353.15K时K1/K2 =____(保留3位小数)。
(5)硅元素最高价氧化物对应的水化物是H2SiO3,室温下,0.1mol/L的硅酸钠溶液和0.1mol/L的碳酸钠溶液,碱性更强的是 ___,其原因是____。已知:H2SiO3 :Ka1=2.0×10-10、Ka2=2.0×10-12、H2CO3 :Ka1=4.3×10-7,Ka2=5.6×10-11
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三氯氢硅(SiHCl3)是生产多晶硅的主要原料。由粗硅制三氯氢硅的反应如下:
回答下列问题:
(1)写出SiHCl3的结构式 。
(z) SiHCl3,在NaOH溶液中剧烈反应放出H2,该反应的化学方程式为 。
(3)硅的平衡转化率与投料比n(HCl)/n(Si)的关系如右图,则图中温度T1、T2、T3的大小顺序为 。
(4)平衡时,c(SiHCl3)/c(SiCl4)的值a随着c(H2)/c(HCl)的值b的变化而变化。则= (用含Kl、K2的代数式表示);根据关系式,工业上用H2适当稀释HCl来提高SiHCl3的纯度。 请用平衡移动原理加以解释 。
(5)也可用H2还原SiCl4来制取SiHCl3。300℃时该反应的热化学方程式为
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甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域,三氯氢硅()是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题:
(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产时伴随发生的反应有:
①
②
以硅粉和氯化氢气体生产的热化学方程式是_______________________。
(2)工业上可用四氯化硅和氢化铝锂()制甲硅烷,反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为_________________________________________________。
(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应为歧化制甲硅烷过程的关键步骤,此反应采用一定量的催化剂,在不同反应温度下测得的转化率随时间的变化关系如图所示。
①时,平衡转化率为_________。该反应是__________反应(填“放热”或“吸热”)。
②时,要缩短反应达到平衡的时间,可采取的措施有________________________。(答一种即可)
③比较a、b处反应速率的大小:_______________(填“>”“<”或“=”)。已知反应速率分别是正、逆反应的速率常数,与反应温度有关,x为物质的量分数,则在时___________(保留3位小数)。
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硅及其化合物是重要的材料,应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
①用石英砂和焦炭高温加热时有碳化硅生成,该反应的化学方程式为______________。
②写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式:________________。
③SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出并配平该化学反应方程式:________________。
(2)水泥属于硅酸盐工业产品,是重要的建筑材料。水泥熟料的主要成分为CaO、SiO2,并含有一定量的铁、铝和镁等金属的氧化物。实验室测定水泥样品中钙含量的过程如图所示:
回答下列问题:
①在分解水泥样品过程中,以盐酸为溶剂,氯化铵为助溶剂,还需加入几滴硝酸。加入硝酸的目的是_______________,还可使用_________代替硝酸。
②沉淀A的主要成分是__________,其不溶于强酸但可与一种弱酸反应,该反应的化学方程式为________。
③加氨水过程中加热的目的是_______。沉淀B的主要成分为________、_______(写化学式)。
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