三氯氢硅（SiHCl3）是生产多晶硅的主要原料。由粗硅制三氯氢硅的反应如下：回答下列问题：...

三氯氢硅（SiHCl3）是生产多晶硅的主要原料。由粗硅制三氯氢硅的反应如下：

回答下列问题：

（1）写出SiHCl3的结构式　　　　　 。

（z） SiHCl3，在NaOH溶液中剧烈反应放出H2，该反应的化学方程式为　　　　　 。

（3）硅的平衡转化率与投料比n（HCl）／n（Si）的关系如右图，则图中温度T1、T2、T3的大小顺序为　　　　　 。

（4）平衡时，c（SiHCl3）／c（SiCl4）的值a随着c（H2）／c（HCl）的值b的变化而变化。则＝　　　　　 （用含Kl、K2的代数式表示）；根据关系式，工业上用H2适当稀释HCl来提高SiHCl3的纯度。 请用平衡移动原理加以解释　　　　　 。

（5）也可用H2还原SiCl4来制取SiHCl3。300℃时该反应的热化学方程式为　　　　　

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三氯氢硅（SiHCl3）是制备硅烷、多晶硅的重要原料。回答下列问题：

对于反应2SiHCl3(g)=SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)，采用大孔弱碱性阴离子交换树脂催化剂，在323K和343K时SiHCl3的转化率随时间变化的结果如图所示。

在343K下：要提高SiHCl3转化率，可采取的措施是___；要缩短反应达到平衡的时间，可采取的措施有___、___。

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三氯氢硅（SiHCl3）是制备硅烷、多晶硅的重要原料。回答下列问题：

对于反应2SiHCl3(g)=SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)，采用大孔弱碱性阴离子交换树脂催化剂，在323K和343K时SiHCl3的转化率随时间变化的结果如图所示。

①343K时反应的平衡转化率α=___%。平衡常数K343K=__（保留2位小数）。

②在343K下：要提高SiHCl3转化率，可采取的措施是__；要缩短反应达到平衡的时间，可采取的措施有___、___。

③比较a、b处反应速率大小：va___vb（填“大于”“小于”或“等于”）。反应速率v=v正-v逆=-，k正、k逆分别为正、逆向反应速率常数，x为物质的量分数，计算a处=___（保留1位小数）。

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硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式：_____________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式：____________________。

（2）化学研究性学习小组在探究硅的制取方法时，从资料查阅到下列信息：①Mg在高温条件下可与SiO2反应；②金属硅化物与稀H2SO4反应生成硫酸盐和SiH4；③SiH4在空气中自燃。

他们根据信息进行实验，当用足量稀H2SO4溶解第①步实验获得的固体产物时，发现有爆鸣声和火花；然后过滤、洗涤、干燥；最后称量、计算，测得其产率只有预期值的63%左右。

①第①步实验发生反应的化学方程式是　　　　　　　　 ；______　　 ____。

②用稀H2SO4溶解第①步实验获得固体产物时，产生爆鸣声和火花的原因是(用化学方程式表示)_________________，　　　　　　　　　　　 。

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硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前

制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式_______________________________。整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______________________________________________。H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是____________________________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。

A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释。____________________________________________。

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三氯硅烷(SiHCl3)在空气中极易燃烧，易与水反应生成两种酸，主要用于生产多晶硅、硅油等，熔点为-134℃、沸点为31.8℃。已知氯化氢气体在加热条件下可与单质硅反应得到三氯硅烷，某同学利用如图装置制备一定量的三氯硅烷(加热装置均省略)。

（1）制备HCl气体的方法之一是将浓硫酸与浓盐酸混合，下列性质与制备原理无关的是______(填字母)，B装置的作用是_________________，冰盐水的作用是_________________

A.浓硫酸具有脱水性 　　　　　　　 B.浓硫酸具有吸水性

C.盐酸具有挥发性　　　　　　　　　 D.气体的溶解度随温度升高而降低

（2）实验开始后，首先要通入一段时间的HCl气体后才能对C处试剂加热，目的是：①排出装置中空气，防止硅与氧气反应，② _____________________。该套实验装置有两处明显的错误：①E中会产生倒吸，② ____________________。E装置的用途是_______________________。

（3）加热条件下，C中发生的是置换反应，相应的化学方程式为________________________。

（4）制得的SiHCl3中含有少量SiCl4(沸点为57.6℃)，提纯SiHCl3采用的适宜方法为__________，收集SiHCl3时温度应控制在_____________。

（5）设计一个实验证明C中产生的气体是H2：_______________________________。

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甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域，三氯氢硅（SiHCl3）是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题：

(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有：

Si(s)＋4HCl(g)= SiCl4(g)＋2H2(g)　　 ∆H＝-241 kJ/mol

SiHCl3(g)＋HCl(g)=SiCl4(g)＋H2(g)　 ∆H＝-31 kJ/mol

以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是____________________________。

(2)工业上可用四氯化硅和氢化铝锂（LiAlH4）制甲硅烷，反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为_________________。

(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g) SiH2Cl2(g)＋SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤，此反应采用一定量的PA100催化剂，在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。

① 353.15 K时，平衡转化率为_________，反应的平衡常数K＝________（保留3位小数）。该反应是________反应（填“放热”“吸热”）。

②323.15 K时，要缩短反应达到平衡的时间，可采取的措施有_________、__________。

③ 比较a、b处反应速率的大小：va_____vb （填“＞”“＜”或“＝”）。已知反应速率v正＝，v逆＝，k1、k2分别是正、逆反应的速率常数，与反应温度有关，x为物质的量分数，则在353.15 K时＝________（保留3位小数）。

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甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域，三氯氢硅（SiHCl3）是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题：

(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有：

Si(s)＋4HCl(g)= SiCl4(g)＋2H2(g)　　 ∆H＝-241 kJ/mol

SiHCl3(g)＋HCl(g)=SiCl4(g)＋H2(g)　 ∆H＝-31 kJ/mol

以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是____________________________。

(2)工业上可用四氯化硅和氢化铝锂（LiAlH4）制甲硅烷，反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为_________________。

(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g) SiH2Cl2(g)＋SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤，此反应采用一定量的PA100催化剂，在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。

① 353.15 K时，平衡转化率为_________，反应的平衡常数K＝________（保留3位小数）。该反应是________反应（填“放热”“吸热”）。

②323.15 K时，要缩短反应达到平衡的时间，可采取的措施有_________、__________。

③ 比较a、b处反应速率的大小：va_____vb （填“＞”“＜”或“＝”）。已知反应速率v正＝，v逆＝，k1、k2分别是正、逆反应的速率常数，与反应温度有关，x为物质的量分数，则在353.15 K时＝________（保留3位小数）。

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甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域，三氯氢硅（SiHCl3）是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题：

(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有：

Si(s)＋4HCl(g)=SiCl4(g)＋2H2(g)　　 ∆H＝-241kJ/mol

SiHCl3(g)＋HCl(g)=SiCl4(g)＋H2(g)　　 ∆H＝-31kJ/mol

以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是 ___。

(2)铝锂形成化合物LiAlH4既是金属储氢材料又是有机合成中的常用试剂，遇水能得到无色溶液并剧烈分解释放出H2，请写出其水解反应化学方程式____。LiAlH4在化学反应中通常作_______(填“氧化”或“还原”)剂。工业上可用四氯化硅和氢化铝锂（LiAlH4）制甲硅烷，反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为 _________

(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g)SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤，此反应采用一定量的PA100催化剂，在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。

①353.15K时，平衡转化率为____，该反应是____反应（填“放热”“吸热”）。

②323.15K时，要缩短反应达到平衡的时间，可采取的最佳措施是____。

(4)比较a、b处反应速率的大小：Va ___Vb （填“＞”“＜”或“＝”）。已知反应速率V正=K1x2SiHCl3，V逆=K2xSiH2Cl2xSiCl4，K1，K2分别是正、逆反应的速率常数，与反应温度有关，x为物质的量分数，则在353.15K时K1/K2 ＝____（保留3位小数）。

(5)硅元素最高价氧化物对应的水化物是H2SiO3，室温下，0.1mol/L的硅酸钠溶液和0.1mol/L的碳酸钠溶液，碱性更强的是 ___，其原因是____。已知：H2SiO3 :Ka1=2.0×10-10、Ka2=2.0×10-12、H2CO3 ：Ka1=4.3×10-7，Ka2=5.6×10-11

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三氯氢硅(SiHCl3)是制备硅烷、多晶硅的重要原料，对于反应2SiHCl3(g)SiH2Cl2(g) ＋SiCl4(g)，应速率v＝v正－v逆＝k正x2SiHCl3－k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分别为正、逆向反应速率常数，x为物质的量分数，采用大孔弱碱性阴离子交换树脂催化剂，在323K和343K时SiHCl3的转化率随时间变化的结果如图所示。下列说法错误的是（　　 ）

A.该反应的正反应活化能大于逆反应活化能

B.a、b处反应速率大小：va大于vb

C.温度一定时使用更优质催化剂，可使k正、k逆增大，k正与k逆的比值增大

D.343K时反应的平衡常数K=

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