下列对元素周期表说法不正确的是
A、在第ⅥB和第ⅦB族附近可以找到耐高温金属材料
B、第ⅣA族所有含氧酸的钠盐,溶于水均呈碱性
C、如果已知元素的最外层电子数为2,由此不能判断该元素在周期表中的位置
D、目前已知发现的第ⅣA族元素为5种,所以该族元素共有5种单质
高三化学选择题简单题
下列对元素周期表说法不正确的是
A、在第ⅥB和第ⅦB族附近可以找到耐高温金属材料
B、第ⅣA族所有含氧酸的钠盐,溶于水均呈碱性
C、如果已知元素的最外层电子数为2,由此不能判断该元素在周期表中的位置
D、目前已知发现的第ⅣA族元素为5种,所以该族元素共有5种单质
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在元素周期表中,在金属元素与非金属元素的分界线附近可以找到 ( )
A、作为催化剂的材料 B、电子工业上的半导体材料 C、制造农药的材料 D、制造耐高温材料
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在元素周期表中,主族元素自ⅢA族的硼到ⅦA族的砹连一条斜线,即为金属和非金属的分界线,从分界线附近可以找到( )
A.耐高温材料 B.半导体材料 C.新型农药材料 D.新型催化剂材料
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下列说法中正确的是
A. CO2、NH3、BF3中,所有原子都满足最外层8电子的稳定结构
B. 在元素周期表中金属和非金属交界处可以找到半导体材料
C. 由非金属元素组成的化合物一定是共价化合物
D. 第ⅠA族元素和第ⅦA 族元素的原子之间都能形成离子键
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短周期元素X原子核外的电子处于n个电子层上,最外层电子数为(2n+1),核内质子数为(2n2-1)。有关X的说法中不正确的是
A.X元素气态氢化物的水溶液呈酸性
B.X能形成化学式为NaXO3的含氧酸钠盐
C.X原子的最外层电子数和核电荷数不可能为偶数
D.X元素常见单质的化学式为X2
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下列说法中错误的是( )
A.在元素周期表金属与非金属分界线附近能找到制半导体材料的元素
B.离子键、共价键、氢键都是化学键
C.元素周期律是元素原子核外电子排布周期性变化的必然结果
D.卤族单质,随着相对分子量的增大,分子间作用力增强,熔沸点也相应升高
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四种短周期元素A、B、C、D在元素周期表中的相对位置如图所示,其中D形成的两种氧化物都是常见的大气污染物。下列有关判断不正确的是
A.A的简单氢化物是天然气的主要成分
B.元素A、B、C对应的含氧酸的钠盐水溶液不一定显碱性
C.单质B既可以与酸反应,又可以与碱反应,所以是两性单质
D.最高价氧化物对应的水化物的酸性:D>C
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四种短周期元素A、B、C、D在元素周期表中的相对位置如图所示,其中D形成的两种氧化物都是常见大气污染物。下列有关判断不正确的是( )
A. 简单氢化物的热稳定性:C B. A、C、D的含氧酸的钠盐水溶液均显碱性
C. 单质B可用于铁轨的焊接 D. 最高价氧化物对应水化物的酸性:D>C
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(14分)高纯硅晶体是信息技术的重要材料。
(1)在周期表的以下区域中可以找到类似硅的半导体材料的是______(填字母)。
A.过渡元素区域 B.金属和非金属元素的分界线附近
(2)工业上用石英和焦炭可以制得粗硅。已知:
写出用石英和焦炭制取粗硅的热化学方程式 ______。
(3)某同学设计下列流程制备高纯硅:
①Y的化学式为______。
②写出反应Ⅰ的离子方程式 。
③写出反应Ⅳ的化学方程式 。
④步骤Ⅵ中硅烷(SiH4)分解生成高纯硅,已知甲烷分解的温度远远高于硅烷,用原子结构解释其原因是 。
(4)将粗硅转化成三氯硅烷(SiHCl3),进一步反应也可以制得粗硅。其反应:
SiHCl3 (g) + H2(g) Si(s) + 3HCl(g),不同温度下,SiHCl3的平衡转化率随反应物的投料比(反应初始时各反应物的物质的量之比)的变化关系如图所示。下列说法正确的是 (填字母)。
A.该反应是放热反应
B.横坐标表示的投料比应该是
C.该反应的平衡常数随温度升高而增大
D.实际生产中为提高SiHCl3的利用率,可以适当增大压强
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部分短周期元素化合价与原子序数的关系可用右图表示,下列说法正确的是
A.原子半径:Z>Y>X
B.X和Z形成的化合物能溶于NaOH溶液
C.Q和X形成的化合物不能与酸反应
D.R元素的含氧酸和W元素的含氧酸,酸性一定前者强
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