三氟化氮(NF3)是一种无色无味的气体,可由氟与氨反应制得。
(1)该反应的方程式为NH3+F2→NF3+NH4F,配平方程式并标明电子转移的方向和数目。
(2)27.0 mL NF3和水充分反应,生成 18.0 mL NO(同温、同压下),写出反应的化学方程式:___________________________________。
(3)NF3是一种无色无味的气体,但一旦NF3在空气中泄漏,还是易于发现的。该气体泄漏时的现象是________。
高三化学填空题简单题
三氟化氮(NF3)是一种无色无味的气体,可由氟与氨反应制得。
(1)该反应的方程式为NH3+F2→NF3+NH4F,配平方程式并标明电子转移的方向和数目。
(2)27.0 mL NF3和水充分反应,生成 18.0 mL NO(同温、同压下),写出反应的化学方程式:___________________________________。
(3)NF3是一种无色无味的气体,但一旦NF3在空气中泄漏,还是易于发现的。该气体泄漏时的现象是________。
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三氟化氮(NF3)是无色无味气体,它可由氨气和氟气反应制得:4NH3+3F2=NF3+3NH4F。下列说法正确的是
A、NH4F的还原性比NH3强
B、NF3的氧化性比F2强
C、该反应中被氧化和被还原物质的物质的量之比为4∶3
D、该反应中得到1 mol NF3时,转移6 mol电子
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三氟化氮(NF3)是一种无色、无味的气体,它是微电子工业技术的关键原料之一。
(1)三氟化氮可由氨气和氟气反应得到:4NH3+3F2=NF3+3NH4F。NH3的电子式为 _______ ,反应中氨气显示的化学性质有_____________,当有17.0g氨气发生反应时,转移电子的物质的量为_______。
(2)在潮湿的空气中,NF3能与水蒸气发生反应,产物有HF、NO和一种酸,则被氧化与被还原元素原子的物质的量之比为 ___________,NF3、F2、NO三种气体氧化性由弱到强的顺序为____________。
(3)三氟化氮在空气中泄漏时,很容易被发现,依据的现象是_______________________ 。
(4)NCl3的结构类似NF3,但NCl3中N元素显-3价,NCl3遇水发生反应,且反应为非氧化还原反应,该反应的化学方程式为______________________________ 。
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三氟化氮(NF3)是一种无色、无味的气体,它是微电子工业技术的关键原料之一。
(l)三氟化氮可由氨气和氟气反应得到: 4NH3+3F2=NF3+3NH4F。NH3的电子式为__________,反应中氨气显示的化学性质有______________,当有17.0 g氨气发生反应时,转移电子的物质的量为_____。
(2)在潮湿的空气中,NF3能与水蒸气发生反应,产物有HF、NO和一种酸,则被氧化与被还原元素原子的物质的量之比为_________,NF3、F2、NO三种气体氧化性由弱到强的顺序为_________。
(3)三氟化氮在空气中泄露时,很易被发现,依据的现象是______________________。
(4)NCl3结构类似NF3,但NCl3中N元素显-3价,NCl3遇水发生反应,目反应为非氧化还原反应,该反应的化学方程式为____________________________。
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三氟化氮(NF3)是一种无色、无味的气体,它是微电子工业技术的关键原料之一。
(l)三氟化氮可由氨气和氟气反应得到: 4NH3+3F2=NF3+3NH4F。NH3的电子式为__________,反应中氨气显示的化学性质有______________,当有17.0 g氨气发生反应时,转移电子的物质的量为_____。
(2)在潮湿的空气中,NF3能与水蒸气发生反应,产物有HF、NO和一种酸,则被氧化与被还原元素原子的物质的量之比为_________,NF3、F2、NO三种气体氧化性由弱到强的顺序为_________。
(3)三氟化氮在空气中泄露时,很易被发现,依据的现象是______________________。
(4)NCl3结构类似NF3,但NCl3中N元素显-3价,NCl3遇水发生反应,目反应为非氧化还原反应,该反应的化学方程式为____________________________。
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三氟化氮(NF3)是一种无色、无味的气体,它是微电子工业技术的关键原料之一,可由氨气和氟气反应得到:4NH3 +3F2=NF3 +3NH4F,它在潮湿的环境中能发生反应:
3 NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列说法正确的是( )
A.制取NF3的反应中,氧化剂与还原剂的物质的量之比为1:3
B.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
C.若在制取NF3的反应中有2molNH3参加反应,转移电子的物质的量为12mol
D.它在潮湿的环境中NF3是氧化剂,H2O是还原剂
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NF3(三氟化氮)在常温常压下是无色、无味的气体,是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。回答下列问题:
(1)NF3的电子式为______,N元素的化合价为______。
(2)F2与NH3直接反应生成NF3的化学方程式为______。
(3)实验室模拟工业上利用电解熔融NH4HF2(NH4F•HF)法制取NF3,阳极为以Ni为基本材料的合金(内含其他金属,忽略镍及其他金属的反应),阴极为碳素钢,电解废液可回收再利用。
①电解时NF3在______极生成;阴极产生的气体是______(填化学式)。
②电解后废液(含Ni少量Fe和Cu的单质及NH4HF2等)可经如下流程进行回收再利用:
已知该实验条件下,部分金属离子开始沉淀与沉淀完全的pH如下表
金属离子 | Ni2+ | Fe2+ | Cu2+ | Fe3+ |
开始沉淀时的pH | 7.2 | 7.0 | 4.7 | 1.9 |
沉淀完全时的pH | 9.2 | 9.0 | 6.7 | 3.2 |
步骤I的目的是______;步骤Ⅱ滤饼中Ni溶于硝酸的离子方程式为______(HNO3的还原产物为NO);步骤Ⅲ调节pH时,理论上pH应控制的范围是______。
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三氟化氮(NF3)是一种无色、无味、无毒且不可燃的气体,在半导体加工、太阳能电池制造和液晶显示器制造中得到广泛应用。它可在铜的催化作用下由F2和过量的NH3反应得到,该反应另一种产物为盐。
(1)该反应的化学方程式为________,生成物NF3中氮原子的杂化方式为________,NF3分子空间构型为________;
(2)N、F两种元素的氢化物稳定性比较,NH3________HF(选填“>”或“<”);
(3)N3-被称为类卤离子,写出1种与N3-互为等电子体的分子的化学式________;
(4)元素A基态原子的核外电子排布式为1s22s22p63s23p64s2,A跟氟可形成离子化合物,其晶胞结构如图,该离子化合物的化学式为。
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(16分)三氟化氮(NF3)是一种无色、无味、无毒且不可燃的气体,在半导体加工、太阳能电池制造和液晶显示器制造中得到广泛应用。它可在铜的催化作用下由F2和过量的NH3反应得到,该反应另一种产物为盐。
(1)该反应的化学方程式为,每生成1molNF3,转移的电子数为________
生成物NF3中氮原子的杂化方式为,NF3分子空间构型为 ;
(2)N、F两种元素的氢化物稳定性比较,NH3________HF(选填“>”或“<”);
(3)N3-被称为类卤离子,写出1种与N3-互为等电子体的分子的化学式 ________;
(4)氯化铜溶液中加入过量氨水,可以生成四氨合铜络离子, 写出该反应的化学方程式;
(5)元素A基态原子的核外电子排布式为1s22s22p63s23p64s2,A跟氟可形成离子化合物,其晶胞结构如左图,该离子化合物的化学式为。
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(16分)三氟化氮(NF3)是一种无色、无味、无毒且不可燃的气体,在半导体加工、太阳能电池制造和液晶显示器制造中得到广泛应用。它可在铜的催化作用下由F2和过量的NH3反应得到,该反应另一种产物为盐。
(1)该反应的化学方程式为▲,每生成1molNF3,转移的电子数为 ▲,生成物NF3中氮原子的杂化方式为▲,NF3分子空间构型为 ▲ ;
(2)N、F两种元素的氢化物稳定性比较,NH3▲ HF(选填“>”或“<”);
(3)N3-被称为类卤离子,写出1种与N3-互为等电子体的分子的化学式▲ ;
(4) 氯化铜溶液中加入过量氨水,可以生成四氨合铜络离子, 写出该反应的化学方程式▲;
(5)元素A基态原子的核外电子排布式为1s22s22p63s23p64s2,A跟氟可形成离子化合物,其晶胞结构如左图,该离子化合物的化学式为▲。
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