近年来研制的NH3气体可用作氟化氢一氟化氚高能化学激光器的氟源，也可作为火箭推进剂，NF3...

近年来研制的NH₃气体可用作氟化氢一氟化氚高能化学激光器的氟源，也可作为火箭推进剂，NF₃可用NH₃与氟气制取，化学方程式为：4NH₃＋3F₂ NF₃＋3H₄F，下列说法不正确的是

A．NF₃的形成过程用电子式可表示为

B．NF₃的氧化性大于F₂

C．NF₃分子空间构型为三角锥形

D．NH₄F中既有离子键又有极性共价键

高三化学选择题中等难度题查看答案及解析

三氟化氮(NF₃)是一种无色无味的气体，可由氟与氨反应制得。

(1)该反应的方程式为NH₃＋F₂→NF₃＋NH₄F，配平方程式并标明电子转移的方向和数目。

(2)27.0 mL NF₃和水充分反应，生成 18.0 mL NO(同温、同压下)，写出反应的化学方程式：___________________________________。

(3)NF₃是一种无色无味的气体，但一旦NF₃在空气中泄漏，还是易于发现的。该气体泄漏时的现象是________。

高三化学填空题简单题查看答案及解析

氮的重要化合物,如氨(NH3)、肼(N2H4)、三氟化氮(NF3)等在生产、生活中具有重要作用。

（1）利用NH3的还原性可消除氮氧化物的污染,相关热化学方程式如下:

N2(g)+O2(g)=2NO(g) ΔH1=+229.3 kJ·mol-1

4NH3(g)+5O2(g)=4NO(g)+6H2O(g) ΔH2=-906.5 kJ·mol-1

4NH3(g)+6NO(g)=5N2(g)+6H2O(g) ΔH3

则ΔH3 =　　　　　　　 kJ·mol-1

（2）使用NaBH4为诱导剂,可使Co2+与肼在碱性条件下发生反应,制得高纯度纳米钴,该过程产生的气体无毒，写出该反应的离子方程式　　　　　　　　　　　　　

（3）在微电子工业中，NF3常用作氮化硅的蚀刻剂,工业上通过电解含NH4F等的无水熔融物生产NF3,其电解原理如图所示。

氮化硅的化学式为　　　　　　 　　　　

a电极为电解池的 　　　　　　 　 (填“阴”或“阳”)极,写出该电极的电极反应式　　　　　　　　　　　　　

高三化学填空题困难题查看答案及解析

三氟化氮（NF3）常用于微电子工业，可用以下反应制备：4NH3+3F2＝NF3+3NH4F，下列说法中，正确的是（　　 ）

A.NF3的电子式为

B.NH4F分子中仅含离子键

C.在制备NF3的反应中，NH3表现出还原性

D.在制备NF3的反应方程式中，各物质均为共价化合物

高三化学单选题中等难度题查看答案及解析

氮的重要化合物如氨（NH3）、肼（N2H4）、三氟化氮（NF3）等，在生产、生活中具有重要作用。

（1） 利用NH3的还原性可消除氮氧化物的污染，相关热化学方程式如下：

H2O(l)＝H2O(g)　　 △H1＝44.0 kJ·mol－1

N2(g)＋O2(g)＝2NO(g)　　 △H2＝229.3 kJ·mol－1

4NH3(g)＋5O2(g)＝4NO(g)＋6H2O(g)　　 △H3＝－906.5 kJ·mol－1

4NH3(g)＋6NO(g)＝5N2(g)＋6H2O(l)　　 △H4

则△H4＝　 　　 　 kJ·mol－1。

（2） 使用NaBH4为诱导剂，可使Co2＋与肼在碱性条件下发生反应，制得高纯度纳米钴，该过程不产生有毒气体。

① 写出该反应的离子方程式：　 　　 　 。

② 在纳米钴的催化作用下，肼可分解生成两种气体，其中一种能使湿润的红色石蕊试纸变蓝。若反应在不同温度下达到平衡时，混合气体中各组分的体积分数如下图1所示，则N2H4发生分解反应的化学方程式为：　 　　 　 　 ；为抑制肼的分解，可采取的合理措施有　 　　 　 （任写一种）。

图1　　　　　　　　 　　　　　　　　　　 图2

（3） 在微电子工业中NF3常用作氮化硅的蚀刻剂，工业上通过电解含NH4F等的无水熔融物生产NF3，其电解原理如上图2所示。

① 氮化硅的化学式为 　 　　　　　　　　　　 。

② a电极为电解池的 　　　　　 （填“阴”或“阳”）极，写出该电极的电极反应式：　　　　　　　　　　 ；电解过程中还会生成少量氧化性极强的气体单质，该气体的分子式是　 　　　　　　 　 　 。

高三化学填空题极难题查看答案及解析

（15分）氮的重要化合物如氨（NH3）、肼（N2H4）、三氟化氮（NF3）等，在生产、生活中具有重要作用。

（1）利用NH3的还原性可消除氮氧化物的污染，相关热化学方程式如下：

H2O(l)＝H2O(g)　　 △H1＝44.0 kJ·mol－1

N2(g)＋O2(g)＝2NO(g)　　 △H2＝229.3 kJ·mol－1

4NH3(g)＋5O2(g)＝4NO(g)＋6H2O(g)　　 △H3＝－906.5 kJ·mol－1

4NH3(g)＋6NO(g)＝5N2(g)＋6H2O(l)　　 △H4

则△H4＝　 　 　 kJ·mol－1。

（2）使用NaBH4为诱导剂，可使Co2＋与肼在碱性条件下发生反应，制得高纯度纳米钴，该过程不产生有毒气体。

①写出该反应的离子方程式：　 　 　 。

②在纳米钴的催化作用下，肼可分解生成两种气体，其中一种能使湿润的红色石蕊试纸变蓝。若反应在不同温度下达到平衡时，混合气体中各组分的体积分数如下图1所示，则N2H4发生分解反应的化学方程式为：　 　 　 ；为抑制肼的分解，可采取的合理措施有　 　 　 （任写一种）。

（3）在微电子工业中NF3常用作氮化硅的蚀刻剂，工业上通过电解含NH4F等的无水熔融物生产NF3，其电解原理如上图2所示。

①氮化硅的化学式为 　 。

②a电极为电解池的 　 （填“阴”或“阳”）极，写出该电极的电极反应式： 　 ；电解过程中还会生成少量氧化性极强的气体单质，该气体的分子式是　 　 　 。

高三化学简答题困难题查看答案及解析

三氟化氮（NF3）是一种无色、无味的气体，它是微电子工业技术的关键原料之一。

（1）三氟化氮可由氨气和氟气反应得到：4NH3＋3F2＝NF3＋3NH4F。NH3的电子式为 _______ ，反应中氨气显示的化学性质有_____________，当有17.0g氨气发生反应时，转移电子的物质的量为_______。

（2）在潮湿的空气中，NF3能与水蒸气发生反应，产物有HF、NO和一种酸，则被氧化与被还原元素原子的物质的量之比为 ___________，NF3、F2、NO三种气体氧化性由弱到强的顺序为____________。

（3）三氟化氮在空气中泄漏时，很容易被发现，依据的现象是_______________________ 。

（4）NCl3的结构类似NF3，但NCl3中N元素显-3价，NCl3遇水发生反应，且反应为非氧化还原反应，该反应的化学方程式为______________________________ 。

高三化学填空题中等难度题查看答案及解析

氮的重要化合物如氨(NH3)、肼(N2H4)、三氟化氮(NF3)等，在生产、生活中具有重要作用．

（1）利用NH3的还原性可消除氮氧化物的污染，相关热化学方程式如下：

H2O(l)=H2O(g)△H1=44.0kJ•mol-1

N2(g)+O2(g)=2NO(g)△H2=229.3kJ•mol-1

4NH3(g)+5O2(g)=4NO(g)+6H2O(g)△H3=-906.5kJ•mol-1

4NH3(g)+6NO(g)=5N2(g)+6H2O(l)△H4

则△H4=_____________kJ•mol-1．

（2）使用NaBH4为诱导剂，可使Co2+与肼在碱性条件下发生反应，制得高纯度纳米钴，该过程不产生有毒气体。

①写出该反应的离子方程式：_____________；

②在纳米钴的催化作用下，肼可分解生成两种气体，其中一种能使湿润的红色石蕊试纸变蓝．若反应在不同温度下达到平衡时，混合气体中各组分的体积分数如下图1所示，则N2H4发生分解反应的化学方程式为：_____________；为抑制肼的分解，可采取的合理措施有_____________(任写一种)。

（3）在微电子工业中NF3常用作半导体、液晶和薄膜太阳能电池等生产过程的蚀刻剂，在对硅、氮化硅等材料进行蚀刻时具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表明不留任何残留物，对表面物污染。工业上通过电解含NH4F等的无水熔融物生产NF3，其电解原理如上图2所示。

①a电极为电解池的_____________(填“阴”或“阳”)极，写出该电极的电极反应式：_____________；

②以NF3对氮化硅(Si3N4)材料的蚀刻为例，用反应方程式来解释为什么在被蚀刻物表面不留任何残留物_____________。

③气体NF3不可燃但可助燃，故气体NF3应远离火种且与还原剂、易燃或可燃物等分开存放，结构决定性质，试从结构角度加以分析_____________。

④能与水发生反应，生成两种酸及一种气态氧化物，试写出相应的化学方程式_____________。

高三化学填空题极难题查看答案及解析

三氟化氮（NF3）是一种无色、无味的气体，它是微电子工业技术的关键原料之一。

（l）三氟化氮可由氨气和氟气反应得到: 4NH3＋3F2＝NF3+3NH4F。NH3的电子式为__________，反应中氨气显示的化学性质有______________，当有17.0 g氨气发生反应时，转移电子的物质的量为_____。

（2）在潮湿的空气中，NF3能与水蒸气发生反应，产物有HF、NO和一种酸，则被氧化与被还原元素原子的物质的量之比为_________，NF3、F2、NO三种气体氧化性由弱到强的顺序为_________。

（3）三氟化氮在空气中泄露时，很易被发现，依据的现象是______________________。

（4）NCl3结构类似NF3，但NCl3中N元素显-3价，NCl3遇水发生反应，目反应为非氧化还原反应，该反应的化学方程式为____________________________。

高三化学填空题中等难度题查看答案及解析

三氟化氮（NF3）是一种无色、无味的气体，它是微电子工业技术的关键原料之一。

（l）三氟化氮可由氨气和氟气反应得到: 4NH3＋3F2＝NF3+3NH4F。NH3的电子式为__________，反应中氨气显示的化学性质有______________，当有17.0 g氨气发生反应时，转移电子的物质的量为_____。

（2）在潮湿的空气中，NF3能与水蒸气发生反应，产物有HF、NO和一种酸，则被氧化与被还原元素原子的物质的量之比为_________，NF3、F2、NO三种气体氧化性由弱到强的顺序为_________。

（3）三氟化氮在空气中泄露时，很易被发现，依据的现象是______________________。

（4）NCl3结构类似NF3，但NCl3中N元素显-3价，NCl3遇水发生反应，目反应为非氧化还原反应，该反应的化学方程式为____________________________。

高三化学填空题中等难度题查看答案及解析