工业上制取纯硅的主要反应:SiCl4 + 2H2 Si + 4HCl。该反应中,被还原的物质是______(填化学式),作为还原剂的物质是______(填化学式);若反应中生成了1 mol Si,则消耗H2 ______mol。
高二化学填空题简单题
工业上制取纯硅的主要反应:SiCl4 + 2H2 Si + 4HCl。该反应中,被还原的物质是______(填化学式),作为还原剂的物质是______(填化学式);若反应中生成了1 mol Si,则消耗H2 ______mol。
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工业上制备纯硅反应的化学方程式为SiCl4(g) + 2H2(g) Si(s) + 4HCl(g) △H>0,下列措施能提高反应速率且使平衡向正反应方向移动的是
A.升温 B.加压 C.减压 D.加催化剂
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工业上制备纯硅反应的化学方程式为SiCl4(g) + 2H2(g) Si(s) + 4HCl(g) △H>0,下列措施能提高反应速率且使平衡向正反应方向移动的是
A.升温 B.加压 C.减压 D.加催化剂
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已知:1 mol晶体硅中含有2 mol Si—Si键。工业上可通过下列反应制取高纯硅:SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g),根据下表列举的化学键的键能数据,判断该反应的反应热(ΔH)为( )
化学键 | Si—O | Si—Cl | H—H | H—Cl | Si—Si | Si—C |
键能/kJ·mol-1 | 460 | 360 | 436 | 431 | 176 | 347 |
A. +412 kJ·mol-1 B. -412 kJ·mol-1 C. +236 kJ·mol-1 D. -236 kJ·mol-1
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工业上高纯硅可通过下列反应制取:SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g),有关化学键的键能数据如表所示:
化学键 | Si—Cl | H—H | H—Cl | Si—Si | Si—C |
键能kJ/mol | 360 | 436 | 431 | 176 | 347 |
下列说法正确的是( )
A.反应中的能量变化与物质的状态无关
B.像这样需要加热才能进行的反应都是吸热反应
C.晶体硅比SiC更稳定
D.该反应中每生成1molSi(s)吸收的能量为236kJ
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制备单质硅的主要化学反应如下:
①SiO2+2Ci+2CO↑ ②Si+2Cl2 SiCl4③SiCl4+2H2Si+4HCl
下列对上述三个反应的叙述中,错误的是
A.①③为置换反应
B.①②③均为氧化还原反应
C.三个反应的反应物中硅元素均被氧化
D.①是工业上制粗硅的反应,②③是粗硅提纯的反应
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工业上制取高纯度硅的反应之一为SiCl4+2H2Si+4HCl。该反应属于( )
A. 化合反应 B. 分解反应
C. 置换反应 D. 复分解反应
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工业上制备纯硅反应的热化学方程式为:
SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g);△H = +QkJ/mol (Q>0),一定温度、压强下,将一定量反应物通入密闭容器进行以上反应(此条件下为可逆反应),下列叙述正确的是
A、反应过程中,若将硅移出体系,能提高SiCl4的转化率
B、若反应开始时SiCl4为1mol,则达平衡时,吸收热量为QkJ
C、反应至4min时,若HCl浓度为0.12mol/L,则H2的反应速率为0.03mol/(Lmin)
D、当反应吸收热量为0.025QkJ时,生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液恰好完全反应
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工业上制备纯硅反应的热化学方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ·mol-1(Q>0),某温度、压强下,将一定量的反应物通入密闭容器进行以上的反应(此条件下为可逆反应),下列叙述正确的是( )
A.反应过程中,若增大压强能提高SiCl4的转化率
B.若反应开始时SiCl4为1mol,则达到平衡时,吸收热量为QkJ
C.反应至4min时,若HCl的浓度为0.12mol·L-1,则H2的反应速率为0.03mol/(L·min)
D.当反应吸收热量为0.025QkJ时,生成的HCl通入100mL1mol·L-1的NaOH恰好反应
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